유해가스 배기장치, 건설장치, 반도체 제조공정용 배기장치, 공정장치, 장비, 장치 변리사 특허 등록사례 - "반도체 …
유해가스 배기장치, 건설장치, 반도체 제조공정용 배기장치, 공정장치, 장비, 장치 변리사 특허 등록사례 - "반도체 제조공정용 유해가스 배기장치"
유해가스 배기장치, 건설장치, 반도체 제조공정용 배기장치, 공정장치, 장비, 장치 변리사 특허 등록사례 - "반도체 제조공정용 유해가스 배기장치"
출원 연월일 : 2021년 10월 13일
출 원 번 호 : 10-2021-0136031
공고 연월일 : 2023년 02월 16일
공 고 번 호 :
특허결정(심결)연월일 : 2023년 02월 02일
청구범위의 항수 : 5
유 별 : H01L 21/67
발명의 명칭 : 반도체 제조공정용 유해가스 배기장치
존속기간(예정)만료일 : 2041년 10월 13일
(19) 대한민국특허청(KR)
(12) 등록특허공보(B1)
(45) 공고일자 2023년02월16일
(11) 등록번호 10-2499926
(24) 등록일자 2023년02월10일
(51) 국제특허분류(Int. Cl.)
H01L 21/67 (2006.01) F16L 55/10 (2019.01)
(52) CPC특허분류
H01L 21/67017 (2013.01)
B08B 9/032 (2013.01)
(21) 출원번호 10-2021-0136031
(22) 출원일자 2021년10월13일
심사청구일자 2021년10월13일
(56) 선행기술조사문헌
KR101430062 B1
(73) 특허권자
주식회사 영**
경기도 용인시 기흥구 중부대로
(72) 발명자
강**
경기도 용인시 기흥구 중부대로
오**
경기도 용인시 기흥구 기흥역로
(74) 대리인
김영관
전체 청구항 수 : 총 5 항 심사관 : 김종윤
(54) 발명의 명칭 반도체 제조공정용 유해가스 배기장치
(57) 요 약
본 발명은 반도체 제조공정 중 발생된 유해가스를 일정하게 배기하고 흄 따위를 포함하는 고체 미립자의 증착을
방지할 수 있는 반도체 제조공정용 유해가스 배기장치에 관한 것이다.
이러한 본 발명은 반도체 제조공정의 챔버에서 발생된 유해가스를 배기하는 배기장치에 있어서, 유해가스를 배기
하도록 챔버에 연결되는 배기유닛, 상기 배기유닛에 결합되어 일정하게 배기압을 유지하면서 유해가스를 배기하
는 댐퍼유닛을 포함한다.
따라서, 본 발명은 배기공이 중심에서 외측 방향으로 개방되어 유해가스의 배기량이 조절되므로 배기의 흐름이
일정하여 배기압을 유지하면서 유해가스를 일정하게 배기할 수 있으며, 복수의 블레이드를 이용하여 배기공의 개
폐를 조절하므로 배관 내에서 공간을 적게 차지할 수 있는 효과가 있다.
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